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u技术特点
u中高频无声板式放电技术；
u本地和远程控制模式可选；
u触控界面，简单易上手；
u水冷最高浓度可达350g/Nm3以上；
u气体流量范围广，适用多种场景；
u多元催化技术，低N2掺杂；
u高纯陶瓷介质，满足半导体洁净要求；
u宽电压供电设计，低功耗，满足多种供电需求;
产品时间：2025-12-16 09:26:39
简要描述：
u技术特点u中高频无声板式放电技术；u本地和远程控制模式可选；u触控界面，简单易上手；u水冷最高浓度可达350g/Nm3以上；u气体流量范围广，适用多种场景；u多元催化技术，低N2掺杂；u高纯陶瓷介质，满足半导体洁净要求；u宽电压供电设计，低功耗，满足多种供电需求;...
u技术特点
u中高频无声板式放电技术；
u本地和远程控制模式可选；
u触控界面，简单易上手；
u水冷最高浓度可达350g/Nm3以上；
u气体流量范围广，适用多种场景；
u多元催化技术，低N2掺杂；
u高纯陶瓷介质，满足半导体洁净要求；
u宽电压供电设计，低功耗，满足多种供电需求;
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